特許
J-GLOBAL ID：200903062589118953

水素製造装置

発明者：
古賀 実

古賀 実 について


出願人/特許権者：
石川島播磨重工業株式会社

石川島播磨重工業株式会社 について


代理人 (1件)： 坂本 光雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-088709
公開番号（公開出願番号）：特開平10-265202
出願日： 1997年03月25日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：
【要約】【課題】 簡単でコンパクトな構成で純水素を製造できるようにする。【解決手段】 高温シフト触媒8を充填したシフト反応室7と伝熱促進用の充填物10を充填した冷却室9を、金属製隔壁6を介して積層した高温シフトコンバータのシフト反応室7に、水素のみを透過するパラジウム膜13を多孔質板14にコーティング又はメッキしてなる隔壁12を介在させて水素ガス室11を配設する。シフト反応室7に導入した改質ガスをシフト反応させて水素を生成すると、パラジウム膜13を利用して水素のみを透過させて純水素を製造する。プレート型であるためコンパクトにできる。
請求項（抜粋）：
高温シフト触媒を充填して改質ガスを流すようにしたシフト反応室と伝熱促進用の充填物を充填して冷却ガスを流すようにした冷却室とを金属製隔壁を介して積層したプレート型高温シフトコンバータの上記シフト反応室に、水素ガスのみを透過する膜を多孔質板にコーティング又はメッキしてなるプレート型の隔壁を介して水素ガス室を配設し、改質ガスをシフト反応室でシフト反応して生成された水素のみを、上記水素透過膜を透過させて水素ガス室に流出させるようにしてなることを特徴とする水素製造装置。
IPC (2件)：
C01B 3/56 ,  C01B 3/38
FI (2件)：
C01B 3/56 Z ,  C01B 3/38
引用特許：
審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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