特許

J-GLOBAL ID：200903062629061372

洗浄剤組成物

発明者： 代田 真美 ,  林藤 克彦
出願人/特許権者： 花王株式会社
代理人 (1件)： 細田 芳徳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-396491
公開番号（公開出願番号）：特開2003-017458
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年01月17日
要約：

【要約】【課題】タングステンもしくはタングステン合金を有する配線又は電極用洗浄剤として使用可能な、デポの除去性が高くかつタングステン又はタングステン合金の腐食量が小である洗浄剤組成物を提供すること。【解決手段】タングステンもしくはタングステン合金を有する配線又は電極用の洗浄剤組成物であって、n価の塩基酸の第n段目の酸解離指数pKan (25°C)が3以上11以下である酸と、その酸当量に対して70〜130%中和当量のアンモニア又はアンモニウムイオンを含有し、pHが4以上である洗浄剤組成物、タングステンもしくはタングステン合金を有する配線又は電極用並びにアルミニウムもしくはアルミニウム合金を有する配線及び/又は銅もしくは銅合金を有する配線の洗浄用の洗浄剤組成物であって、n価の塩基酸の第n段目の酸解離指数pKan(25°C)が3以上11以下である酸と、その酸当量に対して70〜130%中和当量のアンモニア又はアンモニウムイオンを含有し、pHが4以上である洗浄剤組成物。

請求項（抜粋）：

タングステンもしくはタングステン合金を有する配線又は電極用の洗浄剤組成物であって、n価の塩基酸の第n段目の酸解離指数pKan (25°C)が3以上11以下である酸と、その酸当量に対して70〜130%中和当量のアンモニア又はアンモニウムイオンを含有し、pHが4以上である洗浄剤組成物。

IPC (4件)：

H01L 21/304 647 ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  H01L 21/308

FI (4件)：

H01L 21/304 647 Z ,  C11D 7/10 ,  C11D 7/26 ,  H01L 21/308 G

Fターム (14件)：

4H003DA15 ,  4H003EA12 ,  4H003EA16 ,  4H003EA18 ,  4H003EB07 ,  4H003EB41 ,  4H003ED02 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003FA15 ,  5F043AA22 ,  5F043BB27 ,  5F043GG02 ,  5F043GG04

引用特許：

審査官引用 (1件)

• レジスト残渣除去剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-334202   出願人：岸本産業株式会社