特許

J-GLOBAL ID：200903083985389398

レジスト残渣除去剤

発明者： 矢田 隆司 ,  寺山 重樹 ,  肥沼 豊 ,  大串 建
出願人/特許権者： 岸本産業株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-334202
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232063
出願日： 1999年11月25日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 レジスト残渣の除去を、金属腐食などの問題を生じることなく、安全に行うことができる非劇毒物、非危険物のレジスト残渣除去剤を提供する。【解決手段】 リン酸アンモニウムおよび/または縮合リン酸アンモニウムを含有し、pHが1〜10の範囲の水溶液であるレジスト残渣除去剤。

請求項（抜粋）：

リン酸アンモニウムおよび/または縮合リン酸アンモニウムを含有し、pHが1〜10の範囲の水溶液であるレジスト残渣除去剤。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/304 647 ,  H01L 21/308

FI (5件)：

H01L 21/30 572 B ,  G03F 7/42 ,  H01L 21/304 647 Z ,  H01L 21/308 E ,  H01L 21/302 N

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 感光性組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-183022   出願人：富士写真フイルム株式会社