特許
J-GLOBAL ID:200903062648800801

近接場光を用いた超解像層構造を有する光記録媒体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-308064
公開番号(公開出願番号):特開2002-117575
出願日: 2000年10月06日
公開日(公表日): 2002年04月19日
要約:
【要約】【課題】 大きな変調度を確保できる近接場光を用いた超解像層構造を有する光記録媒体を提供する。【解決手段】 レーザースポットの中心部分に光散乱領域9を形成する読出し層3と、読出し層3の光散乱領域9から発生した近接場光10を受ける記録層5と、を備える近接場光を用いた超解像層構造を有する光記録媒体において、記録層5のマーク51に対し照射される近接場光10の散乱効果を高めるとともに、発生する近接場光を増強するための散乱体61を設けた。
請求項(抜粋):
レーザースポットの中心部分に近接場光を形成する読出し層と、前記読出し層で発生した近接場光を受ける記録層と、を備える近接場光を用いた超解像層構造を有する光記録媒体において、散乱体を設けたことを特徴とする近接場光を用いた超解像層構造を有する光記録媒体。
IPC (3件):
G11B 7/24 522 ,  G11B 7/24 ,  G11B 7/004
FI (3件):
G11B 7/24 522 B ,  G11B 7/24 522 F ,  G11B 7/004 Z
Fターム (6件):
5D029JB05 ,  5D029JB06 ,  5D090AA01 ,  5D090BB16 ,  5D090DD01 ,  5D090FF11
引用特許:
審査官引用 (2件)

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