特許
J-GLOBAL ID：200903062657386341
光学多層膜およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-146206
公開番号（公開出願番号）：特開平10-332931
出願日： 1997年06月04日
公開日（公表日）： 1998年12月18日
要約：
【要約】【課題】 分光特性の波長シフトが少ない低価格の光学多層膜、および低コストで分光特性の波長シフトが少ない光学多層膜を製造する方法を提供する。【解決手段】 高屈折膜2H(Ta2O5膜、またはLaおよびTiを主成分とする酸化物からなる膜)と、低屈折膜2L(Al2O3膜、またはSiO2膜)とが、基板1上に1層ごと交互に積層されて光学多層膜2が形成されている。なお、SiO2膜を低屈折膜2Lとする場合、当該SiO2膜が高真空中で成膜される。このように高屈折膜および低屈折膜の膜材料を適切に選択するとともに、高真空中で成膜してなるSiO2膜を用いることで、光学多層膜の分光特性の波長シフトが抑制される。
請求項（抜粋）：
高屈折膜と、前記高屈折膜よりも低い屈折率を有する低屈折膜とを、基板上に積層してなる光学多層膜において、前記高屈折膜が、Ta2O5膜、またはLaおよびTiを主成分とする酸化物からなる膜であるとともに、前記低屈折膜がAl2O3膜、または高真空中で成膜してなるSiO2膜であることを特徴とする光学多層膜。
IPC (3件)：
G02B 5/28
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00
G02B 5/28
, B32B 7/02 103
, B32B 9/00 A
