特許
J-GLOBAL ID：200903035235449769
誘電体多層膜光学フィルタの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
伊丹 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-019749
公開番号（公開出願番号）：特開平8-190010
出願日： 1995年01月12日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：
【要約】【目的】 基板間のばらつきを防止してしかも、光学特性の経時変化の少ない優れた誘電体多層膜フィルタを得ることを可能とした誘電体多層膜光学フィルタの製造方法を提供する。【構成】 二つの蒸着源を有する電子ビーム蒸着装置を用いて、BK-7基板91上に、SiO2 膜92とTiO2 膜93とを交互に繰り返し形成して誘電体多層膜フィルタを作る。膜形成条件は、SiO2 膜形成時は酸素ガス圧を(0.5±0.1)×10-4Torr、TiO2 膜形成時は酸素ガス圧を(1.4〜1.5)×10-4Torrにそれぞれ切換え設定し、基板温度は200±5°C固定とする。
請求項（抜粋）：
チャンバ内に少なくとも二つの蒸着源を有する薄膜形成装置を用いて、基板上に、第1の蒸着源からの第1の誘電体膜と第2の蒸着源からの第2の誘電体膜とを交互に繰り返し形成する誘電体多層膜光学フィルタの製造方法において、前記第1の誘電体膜形成工程と前記第2の誘電体膜形成工程とでチャンバ内酸素ガス圧を切替えて最適設定することを特徴とする誘電体多層膜光学フィルタの製造方法。
引用特許：
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