特許
J-GLOBAL ID:200903062681377264

蒸着装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 岩橋 文雄 ,  内藤 浩樹 ,  永野 大介
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-295144
公開番号(公開出願番号):特開2008-111161
出願日: 2006年10月31日
公開日(公表日): 2008年05月15日
要約:
【課題】 坩堝からの輻射熱の遮蔽を行いながら、蒸着レートの変動やスプラッシュの発生を招く付着物の落下を防止する蒸着装置を提供すること。 【解決手段】 排気装置2を備えた真空容器1と、蒸発材料7を収容する坩堝8と、蒸発材料7を溶融蒸発させる加熱装置と、蒸発した物質を付着させる基板4とを備えた蒸着装置であって、前記坩堝8の上部に開口部を有する複数の遮蔽板13が相互に間隔を持って配置されており、前記遮蔽板13の開口部の開口面積が基板4に近づくとともに拡大するよう構成されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
排気装置を備えた真空容器と、蒸発材料を収容する坩堝を設置する手段と、蒸発材料を溶融蒸発させる加熱装置と、蒸発した物質を付着させる基板を設置する手段とを備えた蒸着装置であって、前記坩堝の上部に開口部を有する複数の遮蔽板が相互に間隔を持って配置されており、前記複数の遮蔽板の各開口部の開口面積が基板に近いものほど大きくなる蒸着装置。
IPC (1件):
C23C 14/24
FI (1件):
C23C14/24 L
Fターム (6件):
4K029CA01 ,  4K029DA10 ,  4K029DB21 ,  4K029EA08 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 成膜装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平11-174154   出願人:住友重機械工業株式会社

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