特許
J-GLOBAL ID:200903075051839183
成膜装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
後藤 洋介 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-174154
公開番号(公開出願番号):特開2001-003158
出願日: 1999年06月21日
公開日(公表日): 2001年01月09日
要約:
【要約】【課題】 ハースへの付着物の付着、特にビーム照射に悪影響する付着物ならびに大量の堆積を防止できる成膜装置を提供する。【解決手段】 ハース41は、冷却が施される箱型基部41bと、箱型基部41b上から上方に突出する筒形を呈し、蒸発材料200を収容するための上部41aとを備えている。上部41aは、少くとも上端部分41cが実質的に薄い肉厚tである。
請求項(抜粋):
真空室内にてハースに収容した蒸発材料を加熱して蒸発させ、蒸発した物質を被処理物体表面上に付着させることにより該被処理物体上に膜を形成するための成膜装置であって、前記ハースは、冷却が施されるものである成膜装置において、前記ハースは、冷却が施される基部と、前記基部上から上方に突出する筒形を呈し、前記蒸発材料を収容するための上部とを備え、前記上部は、少くとも上端部分が実質的に薄い肉厚であることを特徴とする成膜装置。
IPC (2件):
FI (3件):
C23C 14/24 A
, C23C 14/24 B
, C23C 14/28
Fターム (5件):
4K029DB08
, 4K029DB12
, 4K029DB15
, 4K029DB21
, 4K029DB24
引用特許: