特許
J-GLOBAL ID：200903062740357680
エアナイフ及びエアナイフを用いた処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-085851
公開番号（公開出願番号）：特開平11-277011
出願日： 1998年03月31日
公開日（公表日）： 1999年10月12日
要約：
【要約】【課題】エアの噴出口の間隔調整が容易であると共に、噴出経路の調整が容易なエアナイフを提供すること。【解決手段】 基板22表面にエアを噴射してこの基板22に付着した処理液を除去するエアナイフ30a,30bにおいて、外部からエアが導入される窪みを有するチャンバ体31a,31bと、上記チャンバ体31a,31bに対応する形状に形成された蓋体33a,33bと、上記チャンバ体31a,31bと蓋体33a,33bに接合してこれらの間に挾持されると共に、上記チャンバ体31a,31bの一側部に対応する部分に上記窪みに差し掛かる切欠き部42が所定間隔で形成され、この切欠き部42がエアの噴出口46として機能するスリット体32a,32bと、を具備することを特徴としている。
請求項（抜粋）：
基板表面にエアを噴射してこの基板に付着した処理液を除去するエアナイフにおいて、外部からエアが導入される窪みを有するチャンバ体と、上記チャンバ体に対応する形状に形成された蓋体と、上記チャンバ体と蓋体に接合してこれらの間に挾持されると共に、上記チャンバ体の一側部に対応する部分に上記窪みに差し掛かる切欠き部が所定間隔で形成され、この切欠き部がエアの噴出口として機能するスリット体と、を具備することを特徴とするエアナイフ。
IPC (3件)：
B08B 5/02
, H01L 21/304 651
, H01L 21/304
B08B 5/02 Z
, H01L 21/304 651 G
, H01L 21/304 651 L
