特許

J-GLOBAL ID：200903062760850889

凹版並びに凹版の製造方法及びその装置

発明者： 木下 真言
出願人/特許権者： リコーマイクロエレクトロニクス株式会社
代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-254354
公開番号（公開出願番号）：特開2001-071451
出願日： 1999年09月08日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】 凹部のコーナー部にクラックが発生することがない長寿命な凹版並びに該凹版の製造方法及びその装置を提供すること。【解決手段】 凹版材1AにレーザビームLを照射して凹版材1Aに凹部1aを形成する際に、凹版材1Aに対するレーザビームLの照射面積及び照射時間を順次変化させて、レーザビームLの照射面積に応じた加工パターン及びレーザビームLの照射時間に応じた深さの凹部1aを凹版材1Aに順次形成する。これにより、凹版材に対するレーザビームLの照射面積と、凹版材1Aに照射されるレーザビームLの照射時間との関係によって、凹部1aのコーナー部1bの形状を、階段状の面取り形状あるいはほぼアール形状に近い形状に形成することが可能になり、コーナー部1bの機械的強度が増大され、コーナー部1bにクラックが発生し難い長寿命な凹版が得られる。

請求項（抜粋）：

印刷パターンに対応する凹部を有し、該凹部に充填されたペーストを被印刷体に密着させた後、該ペーストを該凹部から版抜けさせて被印刷体側に転写することによって、被印刷体に印刷パターンを印刷するための凹版であって、上記凹部の底面と側面で構成されるコーナー部が、面取り形状またはアール形状に形成されていることを特徴とする凹版。

IPC (4件)：

B41C 1/05 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 ,  B41N 1/06

FI (4件)：

B41C 1/05 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/06 J ,  B41N 1/06

Fターム (17件)：

2H084AA05 ,  2H084AA32 ,  2H084AE05 ,  2H084BB04 ,  2H084BB13 ,  2H084CC03 ,  2H114AA02 ,  2H114BA05 ,  2H114DA04 ,  2H114DA56 ,  2H114DA73 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  4E068AF01 ,  4E068CB05 ,  4E068CD10 ,  4E068CD13

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 電子部品の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-243127   出願人：松下電器産業株式会社