特許

J-GLOBAL ID：200903062782482476

アクティブマトリクス基板およびその製造方法

発明者： 大西 博之
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-294807
公開番号（公開出願番号）：特開平10-142628
出願日： 1996年11月07日
公開日（公表日）： 1998年05月29日
要約：

【要約】【課題】 歩留まりが高く、明るく、かつコントラストの高いアクティブマトリクス基板およびその製造方法を提供する。【解決手段】 薄膜トランジスタからなる非線形素子の形成後に有機ポリシラン等の有機高分子絶縁膜14を1回塗布し、その後有機高分子絶縁膜14に薄膜トランジスタのドレイン電極に達するコンタクト穴を開け、この後有機高分子絶縁膜14をR,G,Bの3色に着色し、さらに残りの部分を黒色に着色することにより有機高分子絶縁膜14にカラーフィルタ9およびブラックマトリクス8を形成する。そして、カラーフィルタ9上にITO絵素電極12Aを形成し、コンタクト穴を通じて薄膜トランジスタのドレイン電極と接続する。

請求項（抜粋）：

光遮光性物質からなる走査線,信号線およびそれらの交点に非線形素子を形成した透明基板と、この透明基板上に平坦に形成された有機高分子絶縁膜と、前記有機高分子絶縁膜に開けられて前記非線形素子の電極に達するコンタクト穴と、前記有機高分子絶縁膜上に形成されて前記コンタクト穴を通じて前記非線形素子の電極と接続される透明導電膜とを備え、前記有機高分子絶縁膜に着色してカラーフィルタとしたアクティブマトリクス基板。

IPC (3件)：

G02F 1/136 500 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

FI (3件)：

G02F 1/136 500 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 505

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平4-253028
  
• 着色パターン形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-068243   出願人：日本ペイント株式会社
• 特開平3-167524
  
• 特開昭62-042122