特許
J-GLOBAL ID：200903062795076477
検査システム及びそれを用いた電子デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-249303
公開番号（公開出願番号）：特開2000-077495
出願日： 1998年09月03日
公開日（公表日）： 2000年03月14日
要約：
【要約】【課題】本発明の目的は、ウエハ毎の検査来歴を使いやすい形に整理し、参照可能とすることで、解析対象ウエハや検査対象ウエハの選択を容易にして、解析準備作業時間の短縮および有効な検査データを取得することにある。【解決手段】本発明は、電子デバイスの製造ラインにおいて解析システムに蓄えられた検査データをあらかじめウエハ毎の被検査工程、検査日時、検査種別、クラスタの有無、取得画像の有無および該ワークの歩留まりといった検査来歴を有する検査来歴リストに纏めることにより、ウエハの検査来歴情報を参照可能とした。
請求項（抜粋）：
電子デバイスとなるワークを複数の検査工程において検査する検査装置と、該検査装置が検査して得た検査結果を記憶する記憶手段と、該記憶手段が記憶する検査結果を用いてワーク毎の検査来歴情報を出力する出力手段とを有する解析システムとを備えたことを特徴とする検査システム。
Fターム (15件)：
4M106AA01
, 4M106AA02
, 4M106BA01
, 4M106BA02
, 4M106BA10
, 4M106CA26
, 4M106CA38
, 4M106CA41
, 4M106CB19
, 4M106CB30
, 4M106DA14
, 4M106DB05
, 4M106DH60
, 4M106DJ20
, 4M106DJ38
