特許
J-GLOBAL ID:200903062813078890

有孔カーボンナノ構造体とその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西澤 利夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-001806
公開番号(公開出願番号):特開2003-205499
出願日: 2002年01月08日
公開日(公表日): 2003年07月22日
要約:
【要約】【課題】 表面に細孔および欠陥を有しているために、液媒体中への分散が容易で、グラファイト層を効果的に修飾できる等の特長をもつ有孔カーボンナノ構造体とその製造方法を提供する。【解決手段】 カーボンナノ構造体を液媒体に分散させて超音波を照射することで、カーボンナノ構造体を構成するグラファイト層に細孔および欠陥を形成することで、炭素の六員環配列構造を有し、少なくとも1つの寸法がナノメートルの領域にあるカーボンナノ構造体であって、炭素の六員環配列構造に、細孔および欠陥の少なくともいずれかが形成されている有孔カーボンナノ構造体とする。
請求項(抜粋):
炭素の六員環配列構造を有し、少なくとも1つの寸法がナノメートルの領域にあるカーボンナノ構造体であって、炭素の六員環配列構造に、細孔および欠陥の少なくともいずれかが形成されていることを特徴とする有孔カーボンナノ構造体。
IPC (3件):
B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  C01B 31/02 101
FI (3件):
B82B 1/00 ,  B82B 3/00 ,  C01B 31/02 101 F
Fターム (4件):
4G046CA00 ,  4G046CB01 ,  4G046CB05 ,  4G046CC10

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