特許

J-GLOBAL ID：200903062830543148

リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、及びそれにより製造されたデバイス

発明者： ファディム イエフゲニエフィッチ バニネ ,  イエロエン ヨンカース
出願人/特許権者： エイエスエム リトグラフィー ベスローテン フエンノートシャップ ,  コニンクリユケ フィリップス エレクトロニクス エヌ.ブイ.
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-262626
公開番号（公開出願番号）：特開2002-124464
出願日： 2001年08月31日
公開日（公表日）： 2002年04月26日
要約：

【要約】【課題】 光学構成要素の汚染が抑制され、それにより従来使用されているシステムの問題に対処するリソグラフィ装置を提供すること。【解決手段】 リソグラフィ投影装置は、放射の投影ビームを供給するための放射システムと、マスクを保持するためのマスク・テーブルと、基板を保持するための基板テーブルと、マスクの照射部分を基板のターゲット部分にイメージするための投影システムとを備える。放射システムと投影システムの一方又は両方が、0.1Pa〜10Paの圧力で不活性ガスを供給されて、例えば炭化水素分子によるシステム内の任意の光学構成要素の汚染を抑制する。

請求項（抜粋）：

放射の投影ビームを供給するための放射システムと、パターニング手段を支持するための支持構造であって、所望のパターンに従って投影ビームをパターニングする働きをする支持構造と、基板を保持するための基板テーブルと、前記パターニングされたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムとを備えるリソグラフィ投影装置において、前記放射システムの少なくとも一部を収容する空間及び/又は前記投影システムの少なくとも一部を収容する空間が、0.1Pa〜10Paの圧力で不活性ガスを含むことを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

G03F 7/20 503 ,  G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 531 A

Fターム (15件)：

2H097AA02 ,  2H097AA03 ,  2H097AB09 ,  2H097BA02 ,  2H097CA15 ,  2H097GB01 ,  2H097LA10 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046DA04 ,  5F046DA27 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14 ,  5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 圧力隔壁およびこれを用いたX線露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-058422   出願人：キヤノン株式会社