特許
J-GLOBAL ID：200903062853950913

炭酸ストロンチウム微粉末及びその製造方法

発明者：
市村 洋二郎

市村 洋二郎 について

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渡邉 孝志

渡邉 孝志 について

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岡田 文夫

岡田 文夫 について

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三隅 修

三隅 修 について


出願人/特許権者：
宇部マテリアルズ株式会社

宇部マテリアルズ株式会社 について


代理人 (1件)： 柳川 泰男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-264273
公開番号（公開出願番号）：特開2007-076934
出願日： 2005年09月12日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：
【課題】 微細な炭酸ストロンチウム微粉末の製造方法を提供する。【解決手段】 有機酸の存在下にて、水酸化ストロンチウム濃度が1〜20質量%の水酸化ストロンチウムの懸濁液を攪拌しながら、該懸濁液に二酸化炭素ガスを、該懸濁液中の水酸化ストロンチウム1gに対して0.5〜200mL/分の範囲の流量にて導入することにより、水酸化ストロンチウムを炭酸化させて炭酸ストロンチウム粒子を生成させ、次いで乾燥することからなる、BET比表面積が52〜300m2/gの範囲にある炭酸ストロンチウム微粉末の製造方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
有機酸の存在下にて、水酸化ストロンチウム濃度が1〜20質量%の水酸化ストロンチウムの水溶液もしくは懸濁液を攪拌しながら、該水溶液もしくは懸濁液に二酸化炭素ガスを、該水溶液もしくは懸濁液中の水酸化ストロンチウム1gに対して0.5〜200mL/分の範囲の流量にて導入することにより、水酸化ストロンチウムを炭酸化させて炭酸ストロンチウム粒子を生成させ、次いで乾燥することからなる、BET比表面積が52〜300m2/gの範囲にある炭酸ストロンチウム微粉末の製造方法。
IPC (1件)：
C01F 11/18
FI (1件)：
C01F11/18 M
Fターム (12件)：
4G076AA16 ,  4G076AB06 ,  4G076AB09 ,  4G076BA24 ,  4G076BB08 ,  4G076BC01 ,  4G076BC02 ,  4G076BC08 ,  4G076CA02 ,  4G076CA04 ,  4G076CA28 ,  4G076DA03
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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