特許
J-GLOBAL ID:200903062859948252

容器処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 下田 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-195335
公開番号(公開出願番号):特開2002-012208
出願日: 2000年06月28日
公開日(公表日): 2002年01月15日
要約:
【要約】【構成】 容器を搬送する搬送手段と、搬送手段の下方に設けられた貯水槽と、貯水槽内に水を供給する給水手段と、貯水槽内の水を加熱する加熱手段と、貯水槽とポンプを介して連結された散水ノズルと、加熱手段を制御する制御手段とを備え、搬送される容器に所定温度の水を散水することにより、容器の温度を上昇もしくは下降させる容器処理装置において、制御手段は貯水槽9,10内の水を容器3に散水される第1温度と、それよりも高温の第2温度とに選択的に加熱手段を制御することにより、通常の運転時は第1温度の水を容器3に散水して容器3の温度を上昇、もしくは下降させるとともに、貯水槽9,10内を殺菌する場合は水を第2温度に昇温した後に、散水ノズル22,23により容器搬送手段に散水することで貯水槽9,10内の水を循環させて殺菌を行う容器処理装置。【効果】 貯水槽の殺菌・洗浄が自動で行える。ノズル詰まりの防止、貯水槽掃除の軽減が図れる。
請求項(抜粋):
容器を搬送する搬送手段と、搬送手段の下方に設けられた貯水槽と、貯水槽内に水を供給する給水手段と、貯水槽内の水を加熱する加熱手段と、貯水槽とポンプを介して連結された散水ノズルと、加熱手段を制御する制御手段とを備え、搬送される容器に所定温度の水を散水することにより、容器の温度を上昇もしくは下降させる容器処理装置において、制御手段は貯水槽内の水を容器に散水される第1温度と、それよりも高温の第2温度とに選択的に加熱手段を制御することにより、通常の運転時は第1温度の水を容器に散水して容器の温度を上昇、もしくは下降させるとともに、貯水槽内を殺菌する場合は水を第2温度に昇温した後に、散水ノズルにより容器搬送手段に散水することで貯水槽内の水を循環させて殺菌を行うことを特徴とする容器処理装置。
IPC (5件):
B65B 63/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 9/30 ,  B65B 55/04 ,  B65B 55/24
FI (5件):
B65B 63/08 ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 9/30 ,  B65B 55/04 C ,  B65B 55/24
Fターム (30件):
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116BB23 ,  3B116BB33 ,  3B116BB62 ,  3B116BB82 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD22 ,  3B116CD41 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB14 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD22 ,  3B201CD41 ,  3E056AA13 ,  3E056BA10 ,  3E056DA05 ,  3E056EA05 ,  3E056FH02 ,  3E056FH05 ,  3E056GA05 ,  3E056HA08 ,  3E056HA10
引用特許:
審査官引用 (4件)
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