特許
J-GLOBAL ID：200903062890598782

シリコン膜形成用組成物およびシリコン膜の形成方法

発明者：
松木 安生

松木 安生 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-243004
公開番号（公開出願番号）：特開2004-087546
出願日： 2002年08月23日
公開日（公表日）： 2004年03月18日
要約：
【課題】太陽電池のシリコン膜として用いられるような、所望の膜厚を有する多結晶シリコン膜を効率的且つ簡便に形成するための組成物および方法を提供すること。【解決手段】シリコン粒子および分散媒を含有するシリコン膜形成用組成物並びに基体上に上記シリコン膜形成用組成物の塗膜を形成し、次いで瞬間溶融、熱処理あるいは光処理するシリコン膜の形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
シリコン粒子および分散媒を含有するシリコン膜形成用組成物。
IPC (3件)：
H01L21/208 ,  C01B33/02 ,  H01L31/04
FI (4件)：
H01L21/208 Z ,  C01B33/02 D ,  C01B33/02 E ,  H01L31/04 X
Fターム (39件)：
4G072AA01 ,  4G072BB09 ,  4G072BB12 ,  4G072GG01 ,  4G072GG03 ,  4G072HH03 ,  4G072NN01 ,  4G072NN21 ,  4G072RR01 ,  4G072RR26 ,  4G072UU02 ,  4J038AA011 ,  4J038AA012 ,  4J038HA011 ,  4J038HA012 ,  4J038HA431 ,  4J038JA01 ,  4J038JA25 ,  4J038JA67 ,  4J038JB13 ,  4J038JB23 ,  4J038JB27 ,  4J038KA09 ,  4J038MA10 ,  4J038MA14 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19 ,  5F051AA03 ,  5F051BA12 ,  5F051CB13 ,  5F051CB25 ,  5F051GA03 ,  5F053AA50 ,  5F053BB60 ,  5F053DD01 ,  5F053FF01 ,  5F053GG02 ,  5F053LL05 ,  5F053PP03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM