二重マイクロカプセル、その製造方法及びマイクロカプセルの表面処理方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (8件)：鈴江武彦 , 河野哲 , 中村誠 , 蔵田昌俊 , 峰隆司 , 福原淑弘 , 村松貞男 , 橋本良郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-183739
公開番号（公開出願番号）：特開2007-000772
出願日： 2005年06月23日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：

【課題】疎水性処理された一次マイクロカプセルを含む二重マイクロカプセル、その製造方法、及びマイクロカプセルの表面処理方法を提供すること。【解決手段】表面に付着した分散剤の水酸基をアシル化することにより疎水性処理された一次マイクロカプセルを疎水性分散媒体に分散させ、このマイクロカプセルを含む分散液を更にカプセル化したことを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

表面に付着した分散剤の水酸基をアシル化することにより疎水性処理された一次マイクロカプセルを疎水性分散媒体に分散させ、この一次マイクロカプセルを含む分散液を更にカプセル化したことを特徴とする二重マイクロカプセル。

IPC (4件)：

B01J 13/04 , B01F 17/52 , C09B 67/08 , B41M 5/165

FI (5件)：

B01J13/02 A , B01F17/52 , C09B67/08 A , C09B67/08 Z , B41M5/12 112

Fターム (23件)：

2H085AA07 , 2H085CD00 , 2H085CD17 , 4D077AA08 , 4D077AB13 , 4D077AC05 , 4D077DD15X , 4G005AA01 , 4G005AB09 , 4G005BA01 , 4G005BB01 , 4G005BB06 , 4G005BB30 , 4G005DB27W , 4G005DC09X , 4G005DC46Y , 4G005DC64W , 4G005DD02W , 4G005DD03Z , 4G005DD07W , 4G005DD35Z , 4G005DD38Z , 4G005DD57W

引用特許：

出願人引用 (1件)

デュアルカプセルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-194273 出願人：トッパン・フォームズ株式会社

審査官引用 (11件)

デュアルカプセルの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-194273 出願人：トッパン・フォームズ株式会社
二重壁膜化マイクロカプセル及びそれを用いた画像記録シート
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-339666 出願人：旭光学工業株式会社
特開昭58-066948

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