洗浄組成物およびそれを用いた半導体基板の洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川曉司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-067983
公開番号（公開出願番号）：特開平7-324199
出願日： 1995年03月27日
公開日（公表日）： 1995年12月12日
要約：

【要約】【構成】水を電気分解してなる電解イオン水と錯化剤(例えば、生成する錯体の水溶性が高い錯化剤と、電気陰性度の高い金属に対して錯形成する錯化剤とからなる)0.01〜2重量%及び/又は分散剤0.01〜1重量%とを含む洗浄組成物。【効果】錯化剤と分散剤の効果により、酸性水、アルカリ性水の双方で金属、パーティクル等の汚染に対して非常に良好な洗浄力を発揮するため、半導体の電気特性の劣化を引き起こすことがない。また、安全でかつ、廃水処理コストも大幅に低減できる。

請求項（抜粋）：