特許

J-GLOBAL ID：200903065125960944

半導体基板の洗浄液

発明者： 杉原 康夫 ,  田中 一成 ,  佐久間 郁江
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-052580
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259140
出願日： 1992年03月11日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 半導体基板を過酸化水素系洗浄液で洗浄する際の金属不純物の基板表面への付着を防止する。【構成】 酸性もしくは塩基性の過酸化水素水溶液からなる洗浄液にホスホン酸系キレート剤と界面活性剤を添加する。【効果】 洗浄液が金属不純物により汚染されても、基板表面への付着が抑制されるので、基板より作製した半導体素子の素子特性が安定化する。

請求項（抜粋）：

酸性もしくは塩基性の過酸化水素洗浄液に対し、ホスホン酸系キレート剤と界面活性剤を添加することを特徴とする半導体基板洗浄液。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平3-053083
  
• 表面処理方法及び処理剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-032633   出願人：和光純薬工業株式会社, 株式会社ピュアレックス
• 特開平3-070800
  
• 特開平2-240285