水素発生・貯蔵装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：渡辺秀治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-267994
公開番号（公開出願番号）：特開2003-073102
出願日： 2001年09月04日
公開日（公表日）： 2003年03月12日
要約：

【要約】【課題】水素の貯蔵または供給に利用する水素付加反応あるいは脱水素反応の反応効率を高めること。【解決手段】水素を放出して芳香族化合物に変化する水素発生体と、水素と反応してその水素を貯蔵する芳香族化合物から成る水素貯蔵体との間における脱水素反応または水素付加反応を利用して水素の発生または貯蔵を行う水素発生・貯蔵装置であって、水素発生体または水素貯蔵体を脱水素反応または水素付加反応させるための触媒143を空洞141a内に配置した反応用部材141を設け、水素発生体または水素貯蔵体を空洞141a内へ噴霧もしくは塗布することにより、脱水素反応または水素付加反応させる。

請求項（抜粋）：

水素を放出して芳香族化合物に変化する水素発生体と、上記水素と反応してその水素を貯蔵する上記芳香族化合物から成る水素貯蔵体との間における脱水素反応または水素付加反応を利用して水素の発生または貯蔵を行う水素発生・貯蔵装置であって、上記水素発生体または上記水素貯蔵体を上記脱水素反応または上記水素付加反応させるための触媒を空洞内に配置した反応用部材を設け、上記水素発生体または上記水素貯蔵体を上記空洞内へ噴霧もしくは塗布することにより、上記脱水素反応または上記水素付加反応させることを特徴とする水素発生・貯蔵装置。

IPC (9件)：

C01B 3/00 , C01B 3/22 , C07C 5/32 , C07C 5/52 , C07C 15/04 , C22C 5/04 , F17C 11/00 , H01M 8/04 , H01M 8/06

FI (10件)：

C01B 3/00 Z , C01B 3/22 Z , C07C 5/32 , C07C 5/52 , C07C 15/04 , C22C 5/04 , F17C 11/00 C , H01M 8/04 J , H01M 8/06 R , H01M 8/06 Z

Fターム (11件)：

3E072EA10 , 4G040AA42 , 4H006AA04 , 4H006AA05 , 4H006AC11 , 4H006AC12 , 4H006BA60 , 4H006BA61 , 5H027AA02 , 5H027BA01 , 5H027BA13

引用特許：

審査官引用 (7件)

有機ハイドライド/金属ハイドライドヒートポンプ
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-514576 出願人：ユナイテッドテクノロジーズコーポレイション
水素製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-140341 出願人：日本碍子株式会社
特開昭57-045348

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