特許
J-GLOBAL ID:200903063028830243

光制御方法および光制御装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 研二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-026419
公開番号(公開出願番号):特開平8-286220
出願日: 1996年02月14日
公開日(公表日): 1996年11月01日
要約:
【要約】【課題】 できる限り低い光パワーで充分な大きさおよび速度の光応答を光応答性の光学素子から引出すような光制御方法および光制御装置を提供する。【解決手段】 光源1から制御光が、光源2から信号光が射出する。制御光および信号光は集光レンズ7で収束され、光学素子8に照射される。受光レンズ9および波長選択透過フィルター20を経て光検出器22で信号光のみが検出される。制御光のON、OFFにより信号光の透過率が可逆的に増減し、信号光の強度変調が実現する。制御光および信号光を収束させて同一光路上を伝播させることにより、光応答性組成物中の励起種と制御光および信号光の光子の相互作用効率を著しく向上させることが可能となり、従来に比べ低い光パワーで充分な大きさおよび速度の光応答を光応答性の光学素子から引出すことが可能になる。
請求項(抜粋):
光応答性組成物から成る光学素子に制御光を照射し、制御光とは異なる波長帯域にある信号光の透過率および/または屈折率を可逆的に変化させることにより前記光学素子を透過する前記信号光の強度変調および/または光束密度変調を行う光制御方法であって、前記制御光および前記信号光を各々収束させて前記光学素子へ照射し、かつ、前記制御光および前記信号光のそれぞれの焦点の近傍の光子密度が最も高い領域が前記光学素子中において互いに重なり合うように前記制御光および前記信号光の光路をそれぞれ配置することを特徴とする光制御方法。
IPC (2件):
G02F 1/35 ,  G02F 1/01
FI (2件):
G02F 1/35 ,  G02F 1/01 Z
引用特許:
審査官引用 (3件)

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