特許
J-GLOBAL ID:200903063047471548

基板処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小野 由己男 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-037258
公開番号(公開出願番号):特開平11-238716
出願日: 1998年02月19日
公開日(公表日): 1999年08月31日
要約:
【要約】【課題】 処理液の汚染度がより適正に保持される基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板処理装置1は、水洗チャンバー4と、純水を貯留する貯留槽61と、ポンプ71と、排水管81,廃棄管82,及び戻り管83と、pH計92と、三方切替バルブ91とを備える。水洗チャンバー4では、基板Wに純水を接触させて基板Wを洗浄する。ポンプ71は、貯留槽61から水洗チャンバー4へと純水を運ぶ。排水管81,廃棄管82,及び戻り管83は、水洗チャンバー4から排出される純水を流す。三方切替バルブ91は、pH計92によって検知された純水の汚染度に従って、水洗チャンバー4から排出される純水を、廃棄することと貯留槽61へと戻すこととを切り替える。
請求項(抜粋):
基板を処理液によって処理する基板処理装置であって、基板に処理液を接触させて基板に処理を施す処理部と、処理液を貯留する貯留部と、前記貯留部から前記処理部へと処理液を運ぶ供給手段と、前記処理部から排出される処理液を流す排出部と、前記処理液の汚染度を検知する検知手段と、前記検知手段によって検知された汚染度に従って、前記処理部から排出される処理液を廃棄することと、前記処理部から排出される処理液を前記貯留部へと戻すこととを切り替える切替手段と、を備えた基板処理装置。
IPC (5件):
H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/00
FI (6件):
H01L 21/304 648 F ,  H01L 21/304 648 G ,  H01L 21/304 648 K ,  B08B 3/02 C ,  B08B 3/08 Z ,  C02F 1/00 V
引用特許:
審査官引用 (1件)

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