磁気記録媒体及び磁気記録媒体の製造方法及びプラズマCVD成膜方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-262177
公開番号（公開出願番号）：特開平7-121855
出願日： 1993年10月20日
公開日（公表日）： 1995年05月12日
要約：

【要約】【目的】本発明は、電磁変換特性と実用信頼性(走行安定性、耐久性、耐候性)とを高次元で両立することのできる磁気記録媒体を提供することを目的とする。【構成】非磁性基板1の一方の面に強磁性金属薄膜3を、他方の面にバックコート層5を形成した後、このバックコート層5上にフッ素、ケイ素もしくは窒素を含み、且つフッ素濃度が最表面から深さ方向に向かって減少するとともに、ケイ素もしくは窒素濃度が最表面から深さ方向に向かって増加する炭素膜6を形成する。

請求項（抜粋）：

非磁性基板の一方の面に磁性層を、他方の面にカーボンブラックを主成分とする充填剤と結合剤とからなるバックコート層をそれぞれ有する磁気記録媒体であって、上記バックコート層上にフッ素、ケイ素を含み、且つフッ素濃度が最表面から深さ方向に向かって減少する炭素膜を有することを特徴とする磁気記録媒体。

IPC (5件)：

G11B 5/66 , C23C 16/50 , G11B 5/72 , G11B 5/84 , H01L 21/205

引用特許：

出願人引用 (7件)

特開平1-245428
特開平4-198480
集積回路、その製造方法およびその薄膜形成装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-001498 出願人：三菱電機株式会社

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審査官引用 (11件)

特開平3-019120
特開平1-245428
特開平1-245428

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