特許
J-GLOBAL ID：200903063110623922

機能膜の製造方法、機能膜形成用塗液、機能素子、電子デバイス及び表示装置

発明者：
西垣 敏

西垣 敏 について

, 
山本 恵美

山本 恵美 について

, 
石田 一也

石田 一也 について


出願人/特許権者：
シャープ株式会社

シャープ株式会社 について


代理人 (3件)： 安富 康男 ,  玉井 敬憲 ,  重平 和信
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-252657
公開番号（公開出願番号）：特開2006-068598
出願日： 2004年08月31日
公開日（公表日）： 2006年03月16日
要約：
【課題】 有機エレクトロルミネセンス素子の発光層、液晶表示素子のカラーフィルタ層、配線基板の配線膜等の機能膜の製造に際し、基板面全体に亘って膜質、膜形状及び膜厚の均一性に優れ、特に塗布方向に沿った乾燥ムラを防止して塗布境界領域における均一性が確保された機能膜を簡便に製造することができる機能膜の製造方法を提供する。【解決手段】 インクジェット印刷法等の湿式法により基板上にパターン状で形成される機能膜の製造方法であって、上記機能膜の製造方法は、25°Cでの蒸気圧が0.133〜133Pa及び/又は大気圧下での沸点が200°C〜300°Cの溶媒に、機能性材料を溶解又は分散させた溶液を大気圧下で基板に塗布する工程と、減圧下で溶媒を除去する工程と、不活性ガス雰囲気下で焼成する工程又は減圧下で焼成する工程とをこの順に含む機能膜の製造方法である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
湿式法により基板上にパターン状で形成される機能膜の製造方法であって、 該機能膜の製造方法は、機能性材料を溶媒に溶解又は分散させた溶液を基板に塗布する工程と、減圧下で溶媒を除去する工程と、不活性ガス雰囲気下で焼成する工程とをこの順に含む ことを特徴とする機能膜の製造方法。
IPC (6件)：
B05D 3/12 ,  B05D 1/26 ,  B05D 3/04 ,  G02B 5/22 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (6件)：
B05D3/12 A ,  B05D1/26 Z ,  B05D3/04 A ,  G02B5/22 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (18件)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA55 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB24 ,  2H048BB41 ,  3K007AB18 ,  3K007BA06 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AC07 ,  4D075BB56Z ,  4D075BB93Z ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075DC24 ,  4D075EC30
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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