積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法及びマスクの使用方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大川宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-047649
公開番号（公開出願番号）：特開平11-005253
出願日： 1998年02月27日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】製造時間の短縮化、価格の低廉化に有利な積層造形に用いられるマスク、マスクの製造方法を提供すること。【解決手段】マスク1は島状のマスク部12をもつ。マスク部12は、紙や樹脂で形成された下地シート層12cと、下地シート層12cの上面に被覆されたアルミ系等の金属を基材とする耐照射膜12eとで形成されている。マスク部12は、下地シート層12cの上面に耐レーザ塗装処理を施して耐照射膜12eを被覆することにより形成できる。耐照射膜12eは蒸着膜で形成しても良い。

請求項（抜粋）：

照射源から照射される照射エネルギによって固化層を形成し、前記固化層を積層することにより三次元造形物を形成する積層造形に用いられるマスクであって、所定のパターン形状をなす下地シート層と、前記下地シート層のうち照射側に被覆され前記下地シート層よりも照射エネルギに対して高い耐久性をもつ耐照射膜とを具備することを特徴とする積層造形に用いられるマスク。

引用特許：

審査官引用 (1件)

光造形システム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-352932 出願人：カシオ電子工業株式会社, カシオ計算機株式会社

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