特許
J-GLOBAL ID:200903063188951780
射出成形方法及び射出成形装置並びにプラスチック材料の清浄化方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
奈良 武
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-358915
公開番号(公開出願番号):特開2001-170955
出願日: 1999年12月17日
公開日(公表日): 2001年06月26日
要約:
【要約】【課題】プラスチック材料に付着した異物等を除去し、品質上の欠陥がない成形品を得る。【解決手段】射出成形方法において、帯電したプラスチック材料15にX線Eもしくは真空紫外線を照射した後、このプラスチック材料16を用いて射出成形する。
請求項(抜粋):
帯電したプラスチック材料にX線もしくは真空紫外線を照射した後、このプラスチック材料を用いて射出成形することを特徴とする射出成形方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (20件):
4F201AL01
, 4F201AM32
, 4F201BA04
, 4F201BN23
, 4F201BN41
, 4F201BQ01
, 4F201BQ11
, 4F201BQ18
, 4F206AL01
, 4F206AM32
, 4F206JA07
, 4F206JE16
, 4F206JE21
, 4F206JE29
, 4F206JE30
, 4F206JF01
, 4F206JF11
, 4F206JF23
, 4F206JF41
, 4F206JQ90
引用特許: