特許
J-GLOBAL ID：200903063199450961
X線発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
好宮 幹夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-515382
公開番号（公開出願番号）：特表2001-501023
出願日： 1997年09月23日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：
【要約】X線発生装置は、排気されて密封されたX線管、電子銃、X線ターゲット、内部電子マスク、及び低いX線吸収性と高い機械的強度を有する材料、例えばベリリウムの細い管からなるX線窓を含んでいる。その窓は、X線ターゲットを含むターゲットアセンブリに管をつなげている。好ましくは、その発生装置は、ターゲット上に電子ビームを集束させて導くためのシステム、ターゲット材料を冷却する冷却システム、X線ビームを集束させるためのX線デバイスを正確かつ繰り返し備えつけることを可能にする運動学的マウント、及び相対的配置及び方法を変えるX線集束デバイスも含んでいる。本発明のX線発生装置は、非常に小さな寸法の焦点または焦線を有するX線源を生じさせ、低い運転電力を使って比較的小さな作用点で高強度のX線ビームを生じさせることができる。
請求項（抜粋）：
電子銃、X線管、電子集束手段、及びその上にX線源が形成されるよう に適合されたターゲットを含み、前記ターゲット上のX線源の大きさ及び /または形状及び/または位置を変えられるように電子集束手段が配置さ れているX線発生装置。
IPC (3件)：
H01J 35/14
, H01J 35/08
, H01J 35/18
H01J 35/14
, H01J 35/08 B
, H01J 35/18
