基板処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：吉田茂明 , 吉竹英俊 , 有田貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-317607
公開番号（公開出願番号）：特開2004-153078
出願日： 2002年10月31日
公開日（公表日）： 2004年05月27日
要約：

【課題】回転する基板から飛散した処理液の跳ね返りを抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Wはスピンベース10上に水平姿勢にて保持されて回転される。基板Wの下面には下側処理液ノズル15から処理液を供給することができる。また、基板Wの上面は雰囲気遮断板30によって覆われている。スプラッシュガード50は基板Wを囲繞するように配置されており、その回収ポート52fの鉛直断面がスプラッシュガード50の中心部に向かって開口した略コの字形状となるように、ガード52を屈曲形成して回収ポート52fの最大内径部分をガード53に近づけるようにしている。回収ポート52fの内壁面と基板Wとの間隔が広くなり、回転する基板Wから飛散した処理液の跳ね返りを抑制することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を略水平姿勢にて保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板を略水平面内にて回転させる回転手段と、前記基板保持手段に保持された基板に複数種類の処理液を選択的に供給する処理液供給部と、回転する基板から飛散する処理液を前記基板保持手段に保持された基板の側方で受け止める略円環形状の複数の案内部と、前記複数の案内部と1対1で対応して設けられ、それぞれが対応する案内部から導かれる処理液を下方へと流す略円筒形状の複数の処理液流路と、回転する基板から飛散する処理液を、その処理液の回収形態に対応した案内部で受け止めるように、前記基板保持手段に保持された基板と各案内部との位置関係を調節する位置調節手段と、を備えた基板処理装置において、前記複数の案内部は、回転する基板から飛散する純水を受け止める純水案内部と、前記純水案内部の上に多段に積層され、回転する基板から飛散する薬液を受け止める複数の薬液案内部と、を備え、前記複数の薬液案内部のうち少なくとも最下段の薬液案内部の最大内径を当該薬液案内部に対応する処理液流路の内径よりも大きくすることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L21/306 , B08B3/02 , H01L21/304

FI (4件)：

H01L21/306 J , B08B3/02 B , H01L21/304 643A , H01L21/304 648K

Fターム (15件)：

3B201AA02 , 3B201AA03 , 3B201AB34 , 3B201BB22 , 3B201BB24 , 3B201BB92 , 3B201BB93 , 3B201CC01 , 3B201CC13 , 3B201CD22 , 3B201CD33 , 5F043AA02 , 5F043DD30 , 5F043EE40 , 5F043FF10

引用特許：

審査官引用 (5件)

基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-362252 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-269075 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-089692 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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