特許
J-GLOBAL ID：200903063268928046

自己再生型カーボンナノチューブ・グラファイト混合膜の形成方法

発明者：
藤田 大介

藤田 大介 について

, 
大西 桂子

大西 桂子 について


出願人/特許権者：
独立行政法人物質・材料研究機構

独立行政法人物質・材料研究機構 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-120459
公開番号（公開出願番号）：特開2004-323303
出願日： 2003年04月24日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：
【課題】外部から炭素源を供給することなくカーボンナノチューブを創製する。【解決手段】炭素を0.1〜2.7at%固溶したニッケルまたはニッケル基合金を超高真空中で炭素固溶限温度以上に加熱保持し、次いで冷却する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
炭素を固溶させたニッケル-炭素合金を真空減圧下に炭素固溶限温度以上に加熱した後に冷却して、前記合金表面にカーボンナノチューブとグラファイトの混合膜を形成することを特徴とする自己再生型カーボンナノチューブ・グラファイト混合膜の形成方法。
IPC (4件)：
C01B31/02 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  G01N13/12
FI (4件)：
C01B31/02 101F ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  G01N13/12 D
Fターム (22件)：
4G146AA02 ,  4G146AA11 ,  4G146AB07 ,  4G146AD22 ,  4G146AD23 ,  4G146AD40 ,  4G146BA50 ,  4G146BB23 ,  4G146BC02 ,  4G146BC13 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33B ,  4G146BC37B ,  5H018AA02 ,  5H018BB00 ,  5H018BB01 ,  5H018BB13 ,  5H018DD08 ,  5H018EE05 ,  5H018EE06 ,  5H018HH05 ,  5H018HH08
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM