特許

J-GLOBAL ID：200903063277148827

塩基性で現像しうるネガチブフォトレジストおよびその使用

発明者： エドワード・ダーコ・バービク ,  アイリーン・アン・ガリガン ,  ジエフリー・ドナルド・ジエローム ,  リチヤード・ピーター・マクガウエイ ,  シヤロン・ルイーズ・ヌーニシユ ,  ジユーリー・ロステイスラフ・パラシチヤーク ,  ラツセル・ジヨゼフ・セリーノ ,  デイビツド・フランク・ウイツトマン
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
代理人 (1件)： 頓宮 孝一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-207847
公開番号（公開出願番号）：特開平5-224421
出願日： 1992年08月04日
公開日（公表日）： 1993年09月03日
要約：

【要約】【目的】 化学放射線への露光によりイメージ化され、水性の塩基性組成物中で現像することができるフォトレジスト組成物に関する。【構成】 このフォトレジスト組成物は、ノボラックポリマー、ポリ(p-ビニルフェノール)およびこれらの混合物からなる群より選ばれた重合体と;アミノ基と反応することのできる官能性基を含有する2-または多官能性の有機金属材料であって、オルガノシリコン、オルガノスズおよびオルガノゲルマニウムとこれらの混合物からなる群より選ばれたものと;架橋化に効果的な量の利用可能な反応性アミノ基を有するアミノ基含有重合体と;並びに前記ノボラック重合体またはポリ(p-ビニルフェノール)、前記有機金属材料および前記アミノ基含有重合体の、架橋化を開始するのに効果的な分量のカチオン性光触媒、とを含有する。この組成物はまた近UV放射線に対して組成物を感光性とする増感剤材料を含有することができる。

請求項（抜粋）：

ノボラックポリマー、ポリ(p-ビニルフェノール)およびこれらの混合物からなる群より選ばれたポリマーと;アミノ基と反応することのできる官能性基を含有する2-または多官能性の有機金属材料であって、オルガノシリコン、オルガノスズおよびオルガノゲルマニウムとこれらの混合物からなる群より選ばれたものと;架橋化に効果的な量の利用可能な反応性アミノ基を有するアミノ基含有重合体と;並びに前記ノボラック重合体またはポリ(p-ビニルフェノール)、前記有機金属材料および前記アミノ基含有重合体の、架橋化を開始するのに効果的な分量のカチオン性光触媒、とを含有するフォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 505 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (11件)

• 特開昭63-097948
  
• 特開平1-293339
  
• 特開平2-262151
  
• 特開平1-126641
  
• 特開昭63-318550
  
• 特開昭61-144639
  
• レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-208302   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-163552
  
• 特開平4-136858
  
• 特開平4-338757
  
• 特開平4-358155