特許
J-GLOBAL ID：200903063358988145
低廃棄物量の水処理系
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-419377
公開番号（公開出願番号）：特開2004-195457
出願日： 2003年12月17日
公開日（公表日）： 2004年07月15日
要約：
【課題】液体廃棄物の最小の発生を伴う水から汚染物を除去するのに有用な後効率水処理に関する。【解決手段】アニオン性汚染物の除去用標準イオン交換プロセスにおいて、汚染された飲料水は圧力容器内で強塩基性アニオン交換樹脂と接触させられる。少なくとも2基の定置円筒状容器1,2,3を含む連続水処理系であり、そこでは各容器がイオン交換樹脂を含有し、各容器は各先端に平坦ヘッド1b,2b,3b及びフラクタル液体ディストリビューター1a,2a,3aを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
少なくとも二つの定置した円筒状容器を含む連続水処理系であって、ここで、各容器はイオン交換樹脂を含有し、それぞれの容器はそれぞれの先端に平坦なヘッド及びフラクタルな液体ディストリビューターを有する水処理系。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4D025AA09
, 4D025AB05
, 4D025BA14
, 4D025BA22
, 4D025BB03
, 4D025CA06
