特許
J-GLOBAL ID：200903063368624028
ガリウム-アルミニウム酸化物結晶膜及びその製造方法並びにそれを用いた半導体素子
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡田 萬里
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-265128
公開番号（公開出願番号）：特開2009-091217
出願日： 2007年10月11日
公開日（公表日）： 2009年04月30日
要約：
【課題】光学的バンドギャップを4.9eV以上の任意なものとしたガリウム-アルミニウム酸化物結晶を低コストで提供する。【解決手段】溶媒にガリウムを含む化合物を溶解させて作製した溶液をサファイア基板上に塗布し、酸化ガリウム薄膜を形成した後、サファイア基板及び酸化ガリウム薄膜を大気中900〜1500°Cの範囲で加熱することにより、(Ga1-xAlx)2O3なる組成式で表されるときの式中のxを0.3未満にしたガリウム-アルミニウム酸化物結晶を得る。 この結晶は、光学的バンドギャップが4.9eVを超え、かつ6.2eV以下の範囲であり、それに対応して波長250〜215nmより長波長域で透明であるため、発光素子や受光素子などに使用できる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
サファイア基板上に形成されたガリウム-アルミニウム酸化物結晶膜であって、当該結晶が(Ga1-xAlx)2O3なる組成式で表されるとき、式中のxが0.3未満であることを特徴とするガリウム-アルミニウム酸化物結晶膜。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
前のページに戻る
