特許
J-GLOBAL ID：200903063413160801
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-324224
公開番号（公開出願番号）：特開2002-134455
出願日： 2000年10月24日
公開日（公表日）： 2002年05月10日
要約：
【要約】【課題】 十分なオゾン濃度を有する処理液を基板に供給することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】そこでこの発明では、基板11にオゾン水を供給して基板11を処理する基板処理装置において、基板11を支持するスピンチャック10と、スピンチャック10に支持された基板11に向けてオゾン水(処理液)を吐出するノズルと、ノズルにオゾン水を供給するオゾン水供給配管14と、ノズルに供給されたオゾン水17中にオゾンを供給するオゾン供給配管16とを有する。
請求項（抜粋）：
基板にオゾンを含む処理液を供給して基板を処理する基板処理装置において、基板を支持する支持手段と、支持手段に支持された基板に向けて処理液を吐出するノズルと、ノズルに処理液を供給する処理液供給手段と、処理液供給手段によってノズルに供給された処理液中にオゾンを供給するオゾン供給手段と、を有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 647
, H01L 21/304 648
, H01L 21/304
H01L 21/304 647 Z
, H01L 21/304 648 L
, H01L 21/304 648 K
