特許
J-GLOBAL ID：200903063417106950
モールド、モールドの製造方法及びパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-065062
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270541
出願日： 2001年03月08日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：
【要約】【課題】 モールドを有機膜パターンから離脱させる際に、有機膜パターンが殆ど反転パターンに付着しないようにする。【解決手段】 モールド基板10と反転パターン11とからなるモールドの表面に形成されている表面処理層12は、CF3(CZ)nSiXaY3-a(但し、nは8以上の整数である。aは1、2又は3である。Zは水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換である飽和又は不飽和のアルキル基、又は置換若しくは非置換の芳香族であって、同一であるか又は互いに異なる。Xはハロゲン原子である。Yは水素原子又は飽和アルキル基である。)の一般式で表わされる化合物を含む。
請求項（抜粋）：
圧着面を有するモールド本体と、前記モールド本体の少なくとも前記圧着面に形成されており、CF3(CZ)nSiXaY3-a(但し、nは8以上の整数である。aは1、2又は3である。Zは水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは非置換である飽和又は不飽和のアルキル基、又は置換若しくは非置換の芳香族であって、同一であるか又は互いに異なる。Xはハロゲン原子である。Yは水素原子又は飽和アルキル基である。)の一般式で表わされる化合物を含む表面処理層とを備えていることを特徴とするモールド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30
, H01L 21/30 571
