特許

J-GLOBAL ID：200903063422267694

CVD装置、プラズマ生成方法、及び、太陽電池

発明者： 野田 松平 ,  川村 啓介 ,  竹内 良昭
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (2件)： 工藤 実 ,  中尾 圭策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-296748
公開番号（公開出願番号）：特開2005-072102
出願日： 2003年08月20日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】薄膜を形成する際に生産性が向上するCVD装置を提供すること。 【解決手段】本発明のCVD装置は、ガス種が封入された真空容器と、真空容器内に設けられた駆動電極と、真空容器内に設けられた接地電極とを具備する。駆動電極と接地電極との間には、真空容器内で発生するプラズマにより薄膜が形成される成膜基板が設けられている。駆動電極は複数のラダー電極を含み、複数のラダー電極の各々は等間隔に配置されている。複数のラダー電極の各々には、薄膜が均一に形成されるように、溝(13)が設けられている。 【選択図】図3

請求項（抜粋）：

ガス種が封入された真空容器と、 前記真空容器内に設けられた駆動電極と、 前記真空容器内に前記駆動電極から離れて設けられた接地電極とを具備し、 前記駆動電極と前記接地電極との間には、前記真空容器内で発生するプラズマにより薄膜が形成される成膜基板が設けられ、 前記駆動電極は複数のラダー電極を含み、前記複数のラダー電極の各々は等間隔に配置され、 前記複数のラダー電極の各々には、前記薄膜が均一に形成されるように、溝が設けられている CVD装置。

IPC (4件)：

H01L21/205 ,  C23C16/505 ,  H01L31/04 ,  H05H1/46

FI (5件)：

H01L21/205 ,  C23C16/505 ,  H05H1/46 A ,  H05H1/46 L ,  H01L31/04 B

Fターム (19件)：

4K030BA29 ,  4K030BA30 ,  4K030BB04 ,  4K030CA06 ,  4K030FA01 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30 ,  4K030LA16 ,  5F045AA08 ,  5F045AB02 ,  5F045AC01 ,  5F045BB01 ,  5F045BB08 ,  5F045CA13 ,  5F045EF08 ,  5F045EH04 ,  5F051AA05 ,  5F051CA15 ,  5F051CA23

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 特許第2989279号公報
  

審査官引用 (1件)

• プラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-270365   出願人：三菱重工業株式会社