特許

J-GLOBAL ID：200903018231021894

プラズマ処理装置

発明者： 竹内 良昭 ,  真島 浩 ,  川村 啓介 ,  青井 辰史 ,  山内 康弘
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 藤田 考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-270365
公開番号（公開出願番号）：特開2003-077849
出願日： 2001年09月06日
公開日（公表日）： 2003年03月14日
要約：

【要約】【課題】 プラズマ励起用電源として超高周波を用いずに、プラズマ均一性及び生産安定性に優れたプラス間処理装置を提供する。【解決手段】 原料ガスをプラズマ化するプラズマ処理装置は、所定間隔で並列に配置された複数の電極棒2を有し、電極棒2のそれぞれの間の空間7でホローカソード放電を発生する電極部1と、電極部1に原料ガスを供給するガス供給部6とを備え、電極棒2は中空状に形成されているとともに中空内部4と外部とを連通する通気口5を有し、ガス供給部6は中空内部4に接続されている。

請求項（抜粋）：

所定ガスをプラズマ化するプラズマ処理装置において、所定間隔で並列に配置された複数の電極棒を有し、該電極棒のそれぞれの間でホローカソード放電を発生する電極部と、前記電極部に前記所定ガスを供給するガス供給部とを備え、前記電極棒は中空状に形成されているとともに該中空内部と外部とを連通する通気口を有し、前記ガス供給部は、前記中空内部に接続されていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/509 ,  H01L 21/302 B

Fターム (21件)：

4K030FA03 ,  4K030KA16 ,  4K030KA30 ,  5F004AA01 ,  5F004BA20 ,  5F004BB13 ,  5F004BC03 ,  5F004BC08 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AD06 ,  5F045AD07 ,  5F045AD08 ,  5F045AE19 ,  5F045AE21 ,  5F045AE23 ,  5F045BB01 ,  5F045EF03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH05

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマCVD装置並びに太陽電池およびこれを作製するプラズマCVD方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-194966   出願人：工業技術院長, アネルバ株式会社, 鐘淵化学工業株式会社, シャープ株式会社
• プラズマ化学蒸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-275895   出願人：三菱重工業株式会社