特許
J-GLOBAL ID:200903063479191112
チタン含有薄膜およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-410104
公開番号(公開出願番号):特開2005-171291
出願日: 2003年12月09日
公開日(公表日): 2005年06月30日
要約:
【課題】MOCVD法により均一で安定した気化を行うことができ所望のチタン含有薄膜を得ることができるチタン含有薄膜の製造方法、及びその方法で得られたチタン含有薄膜を提供する。【解決手段】式(1)【化1】(式中、R1、R2はメチル基またはエチル基であり、R3が炭素数1〜4の直鎖又は分岐状アルキル基の場合、kは1から5の整数であり、R3がトリメチルシリル基の場合、kは1から3の整数である。mは1から2の整数、nは1から3の整数でm+nが3又は4となる数を示す。)で示されるチタン錯体を原料として有機金属化学蒸着法によりチタン含有薄膜を製造する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
式(1)
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (8件):
4K030AA11
, 4K030AA13
, 4K030AA16
, 4K030BA38
, 4K030CA04
, 4K030EA01
, 4K030FA10
, 4K030LA15
引用特許:
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