特許
J-GLOBAL ID：200903063596045739

成膜方法、成膜装置、光学素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、半導体素子および電子機器

発明者：
足助 慎太郎

足助 慎太郎 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 渡邊 隆 ,  志賀 正武 ,  実広 信哉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-266692
公開番号（公開出願番号）：特開2004-103496
出願日： 2002年09月12日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】液状材料を用いて薄膜を形成する場合に、簡易に、その薄膜の形状を所望の形状にすることが可能な成膜方法、成膜装置、光学素子、有機エレクトロルミネッセンス素子、半導体素子および電子機器を提供する。【解決手段】基板10の被処理面に隔壁11を設け、隔壁11で囲まれたパターン領域20内に液状材料15を充填し、その充填の後に、基板10に所定の振動を与える。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板の被処理面に隔壁を設け、該隔壁で囲まれたパターン領域内に液状材料を充填し、該充填した後に、該基板に振動を与えることを特徴とする成膜方法。
IPC (9件)：
H05B33/10 ,  B05C9/12 ,  B05C11/10 ,  B05D3/12 ,  B05D7/00 ,  G02B5/20 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H05B33/22
FI (9件)：
H05B33/10 ,  B05C9/12 ,  B05C11/10 ,  B05D3/12 F ,  B05D7/00 H ,  G02B5/20 101 ,  H05B33/12 B ,  H05B33/14 A ,  H05B33/22 Z
Fターム (19件)：
2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB22 ,  2H048BB41 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007EA00 ,  3K007FA01 ,  4D075BB12Z ,  4D075BB13Z ,  4D075DA06 ,  4D075DA32 ,  4D075DC21 ,  4D075EA05 ,  4F042AA06 ,  4F042BA01
引用特許：
審査官引用 (8件)
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