特許
J-GLOBAL ID：200903076453107312

塗布方法及び塗布装置

発明者：
佐田 徹也

佐田 徹也 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-029257
公開番号（公開出願番号）：特開2002-233807
出願日： 2001年02月06日
公開日（公表日）： 2002年08月20日
要約：
【要約】【課題】 被処理基板上に膜厚の均一な塗布膜を効率よく形成すること。【解決手段】 水平超音波振動印加手段108において超音波振動体112内の超音波振動子116が超音波を発生または励振すると、超音波振動子116からの縦波の超音波が振動伝達板112aを介して基板G上のレジスト液膜に対して左側面から入射し、レジスト液膜中を左端から右端まで水平方向に伝搬する。この水平方向の超音波伝搬により、レジスト液膜の各部が左右に振動変位することで、液膜の表面付近は凹凸部が崩れるようにしてある程度まで平らになる。垂直超音波振動印加手段106において超音波振動子110が超音波を発生または励振すると、超音波振動子110からの縦波の超音波がステージ104および基板Gを介して基板G上のレジスト液膜に底面側から入射し、レジスト液膜中を底から表面まで垂直方向に伝搬する。この垂直方向の超音波伝搬により、レジスト液膜の各部が上下に振動変位することで、うねりを招くことなく液膜の表面をさらに平らにすることができる。
請求項（抜粋）：
被処理基板上に所定の塗布液をほぼ万遍無く塗布する塗布工程と、前記塗布工程の後に、前記基板上の塗布液の中または表面で超音波を伝搬させて、前記超音波の振動により前記塗布液の膜の厚みを均一化するレベリング工程とを有する塗布方法。
IPC (5件)：
B05C 11/02 ,  B05D 3/00 ,  B05D 3/12 ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/027
FI (6件)：
B05C 11/02 ,  B05D 3/00 F ,  B05D 3/12 A ,  B05D 3/12 F ,  G03F 7/16 ,  H01L 21/30 564 Z
Fターム (24件)：
2H025AA00 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025EA04 ,  4D075AC92 ,  4D075BB13Z ,  4D075BB56Z ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DB31 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075DC27 ,  4D075EA05 ,  4D075EA21 ,  4D075EA45 ,  4F042AA02 ,  4F042AA07 ,  4F042AA08 ,  4F042DD01 ,  4F042DD44 ,  4F042DH10 ,  5F046JA27
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (8件)
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