特許

J-GLOBAL ID：200903063683710668

プラズマ処理装置及び処理方法

発明者： 阿部 敬浩 ,  吉開 元彦
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-313836
公開番号（公開出願番号）：特開2009-141014
出願日： 2007年12月04日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：

【課題】プラズマ処理装置において、静電吸着用電圧を印加することによりプラズマの着火性を向上させる。【解決手段】真空処理室115と、該真空処理室内に配置され試料台101と、前記真空処理室内に高周波電力を供給してプラズマを生成するアンテナ電極105を備え、前記生成されたプラズマにより前記試料台上に配置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記試料台101は、試料載置面に絶縁された静電吸着用の電極を備え、前記アンテナ電極に高周波電力を供給してプラズマを生成させる前の所定期間に、前記静電吸着用の電極に所定の直流電圧を供給して充電してプラズマの着火性を向上させた。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

真空処理室と、 該真空処理室内に配置され試料台と、 前記真空処理室内に高周波電力を供給してプラズマを生成するアンテナ電極を備え、 前記生成されたプラズマにより前記試料台上に配置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、 前記試料台は、試料載置面に絶縁された静電吸着用の電極を備え、前記アンテナ電極に高周波電力を供給してプラズマを生成させる前の所定期間に、前記静電吸着用の電極に所定の直流電圧を供給して充電してプラズマの着火性を向上させたことを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H05H 1/46

FI (2件)：

H01L21/302 101C ,  H05H1/46 L

Fターム (8件)：

5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB07 ,  5F004BB13 ,  5F004BB22 ,  5F004CA03 ,  5F004CA09 ,  5F004FA08

引用特許：

出願人引用 (1件)

• プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-319755   出願人：東京エレクトロン株式会社