特許
J-GLOBAL ID：200903063684184382

高周波焼入装置

発明者：
渡邊 日吉

渡邊 日吉 について

, 
長尾 武彦

長尾 武彦 について


出願人/特許権者：
富士電子工業株式会社

富士電子工業株式会社 について


代理人 (1件)： 大西 孝治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-321640
公開番号（公開出願番号）：特開2000-144256
出願日： 1998年11月12日
公開日（公表日）： 2000年05月26日
要約：
【要約】【目的】 比較的低コストで、コンパクト化が可能で、コイルや交換ユニット等の交換作業の楽な高周波焼入装置を提供する。【構成】 高周波焼入装置10は、焼入前のワークWを受け取る受取位置P1と、ワークWを焼入する焼入位置P2(P2′、P2′′)と、焼入後のワークWを払い出す払出位置P3との間においてワークWを間欠的に移動させるワーク移動機構500と、ワークを受けるために受取位置P1に設けられる第1の保持部100と、焼入位置P2(またはP2′、P2′′)にあるワークWを焼入する焼入機構200と、ワークを受けるために払出位置P3に設けられる第2の保持部300とを備えている。ワーク移動機構500は、回動体510と、この回動体510を間欠的に回動させる回動体駆動部550とを有している。
請求項（抜粋）：
焼入前のワークを受け取る受取位置と、ワークを焼入する焼入位置と、焼入後のワークを払い出す払出位置との間でワークを間欠的に移動させるワーク移動機構と、前記焼入位置にあるワークを焼入する焼入機構とを具備しており、前記ワーク移動機構は、ワークを保持する回動体と、この回動体を間欠的に回動させる回動体駆動部とを有していることを特徴とする高周波焼入装置。
IPC (3件)：
C21D 9/30 ,  C21D 1/10 ,  C21D 1/42
FI (3件)：
C21D 9/30 B ,  C21D 1/10 P ,  C21D 1/42 G
Fターム (6件)：
4K042AA16 ,  4K042BA13 ,  4K042DA01 ,  4K042DB01 ,  4K042DF01 ,  4K042EA01
引用特許：
審査官引用 (5件)
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