特許
J-GLOBAL ID：200903063742925738

フォトニクス結晶及びその製造方法、光モジュール並びに光システム

発明者：
木 下 順 一

木 下 順 一 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-089661
公開番号（公開出願番号）：特開2001-281473
出願日： 2000年03月28日
公開日（公表日）： 2001年10月10日
要約：
【要約】【課題】 新規な着想に基づく独特の構成により、従来技術の問題を克服し、望ましい特徴を有する光素子、及びそれを搭載した光モジュールおよび光システムを提供することを目的とする。【解決手段】 相対的に変質しやすい第1の材料と相対的に変質しにくい第2の材料とにより3次元的な周期構造を形成し前記第1の材料を優先的に変質させることにより前記第2の材料との屈折率の差を変質前よりも大きくしてなるフォトニクス結晶を提供する。また、フォトニクス導波路と利得手段と反射手段とを設けることにより、フォトニクス導波路を伝搬する光に対して利得手段により利得を与えつつ前記反射手段により前記光の伝搬方向を反転させることにより共振を生じさせる光素子を提供する。
請求項（抜粋）：
相対的に変質しやすい第1の材料と相対的に変質しにくい第2の材料とにより3次元的な周期構造を形成し前記第1の材料を優先的に変質させることにより前記第2の材料との屈折率の差を変質前よりも大きくしてなることを特徴とするフォトニクス結晶。
IPC (6件)：
G02B 6/12 ,  G02B 6/13 ,  G02F 1/01 ,  H01L 31/0232 ,  H01S 5/183 ,  H01S 5/50 630
FI (7件)：
G02F 1/01 C ,  H01S 5/183 ,  H01S 5/50 630 ,  G02B 6/12 Z ,  G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M ,  H01L 31/02 D
Fターム (20件)：
2H047KA01 ,  2H047PA06 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA00 ,  2H047QA02 ,  2H047RA00 ,  2H079BA03 ,  2H079CA05 ,  2H079DA16 ,  2H079EA03 ,  5F073AA65 ,  5F073AB17 ,  5F073AB21 ,  5F073AB25 ,  5F073DA06 ,  5F073DA31 ,  5F088EA11 ,  5F088JA11 ,  5F088JA14
引用特許：
審査官引用 (2件)
引用文献：
審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM