プラズマ処理装置用誘電体窓及びプラズマ処理装置用誘電体窓の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：青山葆 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-115109
公開番号（公開出願番号）：特開2003-309109
出願日： 2002年04月17日
公開日（公表日）： 2003年10月31日
要約：

【要約】【課題】誘電体窓の温度変化を抑制でき、プラズマ処理の再現性が良く、パーティクルの発生がしにくいプラズマ処理処理方法及び装置を実現するための誘電体窓及びその製造方法を提供する。【解決手段】真空容器1の外に配置されたコイル6に高周波電力を印加し、真空容器1内にプラズマを発生させる装置にて、誘電体窓5の内部に設けられた冷温媒流路11に水を流すことにより、誘電体窓5の温度を制御する。誘電体窓5は、複数の誘電板を接合することによって夫々の誘電板間に冷温媒流路11を形成する。

請求項（抜粋）：

真空容器(1、101)の内部の処理室(40、140)に被加工物(8)を保持し、上記処理室を真空排気しつつ、上記処理室内に反応ガスを導入し、上記真空容器の外部に位置するコイル(6、106)又は電極又は導波管より高周波電力を印加し、上記真空容器の隔壁の一部をなす誘電体窓(5、60、80、90、105)を介して上記処理室内部にプラズマを発生させ、上記被加工物に対してプラズマ処理を行うプラズマ処理装置用誘電体窓であって、第1誘電板(51、61、151、161、171、181、191)と第2誘電板(52、62、152、162、172、182、192)とが接合されてなり、かつ上記第1誘電板と上記第2誘電板との間に冷温媒流路(11、87、97、111)を有することを特徴とするプラズマ処理装置用誘電体窓。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 , C23C 16/507 , H01L 21/205 , H05H 1/46

FI (4件)：

C23C 16/507 , H01L 21/205 , H05H 1/46 L , H01L 21/302 101 C

Fターム (22件)：

4K030FA04 , 4K030JA10 , 4K030KA22 , 4K030KA26 , 4K030KA30 , 4K030KA46 , 4K030KA49 , 5F004BA20 , 5F004BB11 , 5F004BB32 , 5F004BC04 , 5F004CA09 , 5F045AA08 , 5F045BB20 , 5F045EB02 , 5F045EH03 , 5F045EH11 , 5F045EJ01 , 5F045EJ09 , 5F045EJ10 , 5F045EK10 , 5F045GB05

引用特許：

審査官引用 (2件)

プラズマ処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-105213 出願人：日本電気株式会社
半導体製造装置に用いられる石英ガラス製品
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-180323 出願人：東芝セラミックス株式会社

前のページに戻る