特許

J-GLOBAL ID：200903063842227493

露光方法

発明者： 松浦 敏男 ,  藤森 信孝
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 平木 祐輔 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-121940
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306818
出願日： 1996年05月16日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 基板に伸縮による非線形な変形があってもデバイスの性能を低下させることのない画面合成方式のパターン露光方法を提供する。【解決手段】 1つのデバイス21を構成する複数のショットA,B,C,Dを1つの単位として、ショット位置のシフト、回転及び倍率等のショット位置の補正を行う。ショット位置の補正は、デバイスパターンを構成する複数のショットのつなぎ合わせ部での重ね合わせ精度差が最小となるように行う。

請求項（抜粋）：

複数のショットからなるデバイスパターンが複数形成された基板上に次層のショットを重ねて露光する露光方法において、1つのデバイスを構成する複数のショットを1つの単位としてショット位置の補正を行うことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 525 W ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/30 525 X

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 露光装置及び露光方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-253603   出願人：株式会社ニコン
• 位置合わせ方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-140580   出願人：株式会社ニコン