特許
J-GLOBAL ID：200903063992877585
レーザプラズマ光源
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 暁秀 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-302085
公開番号（公開出願番号）：特開平8-162053
出願日： 1994年12月06日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：
【要約】【目的】 レーザ入射光学系への不所望なターゲット物質の付着を有効に防止できるレーザプラズマ光源を提供する。【構成】 レーザ入射光学系を介してターゲット105上にレーザ光101を集光してプラズマを生成し、該プラズマからX線を発生させるようにしたレーザプラズマ光源において、前記レーザ入射光学系のうち、ターゲット105に最も近い光学素子を反射鏡102をもって構成し、かつ該反射鏡102をターゲット105とともに真空容器104内に配置する。
請求項（抜粋）：
レーザ入射光学系を介してターゲット上にレーザ光を集光してプラズマを生成し、該プラズマからX線を発生させるようにしたレーザプラズマ光源において、前記レーザ入射光学系のうち、前記ターゲットに最も近い光学素子を反射鏡をもって構成し、かつ該反射鏡を前記ターゲットとともに真空容器内に配置したことを特徴とするレーザプラズマ光源。
IPC (2件)：
引用特許：
出願人引用 (3件)
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特開昭57-150000
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X線光源装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願平3-257640
出願人：オリンパス光学工業株式会社
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特開平4-112498
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