光走査装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：韮澤弘 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-156730
公開番号（公開出願番号）：特開平11-002769
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1999年01月06日
要約：

【要約】【課題】ビームスポットの形状が良好で、ビームヒポットサイズや光パワーが安定し、光パワーの利用効率が高い光走査装置。【解決手段】副走査方向において、アパーチャ61の実像63が被走査面17の偏向器側に、光源1の実像53が被走査面17の偏向器とは反対側に位置するように配置され、被走査面17が副走査方向における略ビームウエスト位置に配置されており、アパーチャ61は光ビームの中心強度に対して25%以下の位置から副走査方向の外側の部分を遮蔽するように設定されており、被走査面17のデフォーカスによるビームスボットサイズの変動を最小にでき、ビームスポットサイズが最も小さい部分を使用することができ、さらに、光パワーの利用効率が高い。

請求項（抜粋）：

光ビームを発生する光源と、前記光源からの光ビームを所定の特性の整形光ビームに変換する整形光学系と、前記整形光学系中に設けられたアパーチャと、前記整形光ビームを反射偏向させる複数の反射面を有する偏向器と、前記偏向器の反射面により反射偏向された光ビームを被走査面上にビームスポットを形成させて走査させる走査光学系とを備えた光走査装置において、副走査方向において、前記アパーチャの実像が前記被走査面の前記偏向器側に、前記光源の実像が前記被走査面の前記偏向器とは反対側に位置するように配置され、有効走査範囲において、前記被走査面が副走査方向における略ビームウエスト位置に配置されており、かつ、前記アパーチャは光ビームの中心強度に対して25%以下の位置から副走査方向の外側の部分を遮蔽するように設定されていることを特徴とする光走査装置。

IPC (4件)：

G02B 26/10 , G02B 26/10 102 , B41J 2/44 , G02B 27/09

FI (4件)：

G02B 26/10 D , G02B 26/10 102 , B41J 3/00 D , G02B 27/00 E

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-229819
特開昭60-220309
特開昭51-088242

全件表示

前のページに戻る