特許

J-GLOBAL ID：200903064053577419

投影露光装置およびデバイス製造方法

発明者： 天野 利孝
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 伊東 哲也 ,  齋藤 和則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-077340
公開番号（公開出願番号）：特開2006-261418
出願日： 2005年03月17日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：

【課題】 露光品位の向上を図る。【解決手段】 レチクルステージ3とウエハステージ10とを投影レンズ5に対して走査することにより、レチクルステージに支持されたレチクル2に形成されたパターン像を、投影レンズを介してウエハステージに支持されたウエハ8上に転写する露光装置において、投影レンズに対するレチクルまたはレチクルステージの高さをレチクルステージが走査中に計測する計測手段81,82と、計測手段により計測された高さ情報に基づいてレチクルの面形状の補正量またはレチクルステージの駆動軌跡の補正量を算出する算出手段70と、走査露光時、算出手段により算出された補正量に基づいてウエハ上に転写されるパターン像の形状補正を行う補正手段70とを設ける。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

原版ステージと基板ステージとを投影光学系に対して走査することにより、原版ステージに支持された原版に形成されたパターン像を、投影光学系を介して基板ステージに支持された基板上に転写露光する露光手段と、 前記投影光学系の光軸方向における所定の基準位置に対する前記原版または前記原版ステージの相対位置を前記原版ステージが走査中に計測する計測手段と、 前記計測手段により計測された前記相対位置情報に基づいて前記原版ステージの駆動軌跡の補正量を算出する算出手段とを備え、 走査露光時に前記算出手段により算出された駆動軌跡の補正量に基づいて前記露光手段の駆動を実行することを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20 ,  G01B 11/24

FI (6件)：

H01L21/30 516B ,  G01B11/00 B ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 518 ,  H01L21/30 516A ,  G01B11/24 A

Fターム (27件)：

2F065AA06 ,  2F065AA20 ,  2F065AA24 ,  2F065AA53 ,  2F065BB02 ,  2F065CC00 ,  2F065CC20 ,  2F065CC21 ,  2F065CC25 ,  2F065EE00 ,  2F065FF10 ,  2F065GG13 ,  2F065HH04 ,  2F065HH12 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ08 ,  2F065MM02 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ28 ,  5F046BA05 ,  5F046CC02 ,  5F046CC03 ,  5F046CC13 ,  5F046DA05 ,  5F046DB04

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 位置検出方法、面形状推測方法及びそれを用いた露光装置、デバイスの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-063705   出願人：キヤノン株式会社