特許
J-GLOBAL ID：200903064080705496

マーク計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びに露光システム

発明者：
馬込 伸貴

馬込 伸貴 について

, 
馬立 稔和

馬立 稔和 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-183146
公開番号（公開出願番号）：特開2006-012867
出願日： 2004年06月21日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 スキャタロメトリを用いて、アライメントを高精度にかつ効率的に行う。【解決手段】 ロットの先頭ウエハ上のウエハマークからの所定次数の回折光の強度を波長別に検出するステップ102と、その検出結果に基づいてスキャタロメトリ解析によってそのウエハマークの断面形状を求め、この断面形状からそのウエハマークの位置のオフセットを求めるステップ103と、そのウエハ又は2枚目以降のウエハ上のウエハマークの位置をアライメントセンサを用いて計測するステップ104と、この計測値をそのステップ103で求められたオフセットを用いて補正し、この補正された結果に基づいてそのウエハのアライメントを行うステップ105とを有する。【選択図】 図10
請求項（抜粋）：
マークの位置に関する情報を求めるためのマーク計測方法において、 前記マークに検出用の光を照射し、前記マークから発生する所定次数の回折光又は前記マークから所定方向に発生する光を波長別に検出する第1工程と、 前記第1工程の検出結果に基づいて前記マークの断面形状に関する情報を求め、該断面形状に関する情報から前記マークの位置に関するオフセットを求める第2工程とを有することを特徴とするマーク計測方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 525F ,  G01B11/00 G ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 502M
Fターム (14件)：
2F065AA03 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065DD06 ,  2F065EE00 ,  2F065FF44 ,  2F065FF48 ,  2F065HH04 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ43 ,  5F046EA11 ,  5F046FA06 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (1件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM