特許
J-GLOBAL ID:200903001701098546
重ね合わせ測定方法、テストマークおよび非像化測定装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大西 正悟
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-173761
公開番号(公開出願番号):特開2003-068639
出願日: 2002年06月14日
公開日(公表日): 2003年03月07日
要約:
【要約】【課題】 検査のためのパターン像化に依らない光学的測定技術を、スループットを大きく向上させつつ、コスト及び複雑性を非常に低下させた装置によって実現し、分解能、定量化精度、及び繰り返し精度の向上を図り、重ね合せ位置及びパターンプロフィールの同時かつ非破壊測定を行えるようにする。【解決手段】 自動重ね合わせ測定システムが、分光曲線を記憶するステップと、鏡面分光散乱計測装置を用いて二回のリソグラフィー露光によって形成され周期的構造を形成した複数のマークからの反射を測定するステップと、前記二回のリソグラフィー露光のアライメント誤差を評価するために前記鏡面分光散乱計測装置からの処理された信号出力と前記分光曲線とを比較するステップとを含んで構成される。
請求項(抜粋):
連続したリソグラフィー露光の重ね合せ精度を測定する方法であって、第1の分離したパターンを形成するステップと、前記パターンが形成された表面上に、前記第1の分離したパターンの間に挟まれる第2の分離したパターンを形成するステップと、前記第1及び第2の分離したパターンを照明して、干渉パターンを検出するステップとを含む重ね合わせ測定方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G01B 11/24
, G03F 9/00
FI (4件):
G03F 9/00 H
, H01L 21/30 502 V
, H01L 21/30 502 M
, G01B 11/24 D
Fターム (14件):
2F065AA03
, 2F065AA56
, 2F065BB02
, 2F065BB27
, 2F065CC19
, 2F065FF42
, 2F065FF51
, 2F065HH12
, 2F065JJ08
, 5F046EA07
, 5F046EA23
, 5F046EA26
, 5F046EC05
, 5F046FA20
引用特許:
審査官引用 (4件)
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-203276
出願人:株式会社ニコン
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-130131
出願人:株式会社ニコン
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露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-199676
出願人:株式会社ニコン
-
露光方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-152856
出願人:株式会社ニコン
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引用文献:
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